光刻机
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ASML官宣最强光刻机接班人！Hyper NA EUV光刻机蓝图公布：5nm单次曝光
10月9日消息，ASML与光学合作伙伴蔡司近日在《微纳米图案化、材料与计量期刊》发表同行评审论文，正式公布目前最强光刻机High NA EUV接班人——Hyper NA EUV光刻机。论文称，这款接替
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3nm麒麟要惊艳全球！华为：绕开光刻机，韬定律让中国芯逆袭
7月25日消息，近日，华为技术有限公司山东副总经理、产业发展与生态部部长赵颖恪对外公开介绍了华为全新提出的韬定律，这套全新的产业发展思路，为当下中国芯片产业突破制程限制、走出独立发展路径，提出了完全不同于过往海外技术路线的全新解法。
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国产电子束光刻机突破0.6nm精度，量子芯片制造迎来自主“精雕利器”
近日，浙江大学余杭量子研究院自主研发的国产商业电子束光刻机“羲之”正式通过应用测试，0.6nm精度的惊人指标，填补了我国在纳米级精密加工装备领域的空白。 在全球化遭遇逆流、技术封锁日益加剧的背景下，这台国产…
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半导体泰斗卢志远：存储技术革新，纳米极限挑战在于光刻机
我的父亲是中国矿冶工程学会的专家，他不会要求我和弟弟学习矿冶专业，也不会主导我们的学习方向，但是他常常会带着我们参加不同学会举办的各种参观活动或年会，虽然我们年纪小，可能看不懂其中的技术专业，但长期身处这种…
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国产电子束光刻机“羲之”杭州问世，量子芯片研发迎来“中国刻刀”
近日，位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传出喜讯：作为基地首批签约孵化项目之一，全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发从此有了“中国刻刀”。 …
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国产突破！全国首台商业电子束光刻机“羲之”杭州问世，助力量子芯片研发
【太平洋科技快讯】近日，位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传出喜讯：全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试阶段，其精度比肩国际主流设备，标志着量子芯片研发领域从此有了“中国刻刀”。 据悉…
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国产电子束光刻机“羲之”面世：0.6纳米精度，助力量子芯片研发
IT之家 8 月 14 日消息，据杭州日报报道，近日，位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传来重大喜讯：全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试，其精度与国际主流设备相当，标志着我国量子芯片…
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AI需求飙升！ASML新光刻机直击2nm芯片制造，尼康新品获重大突破
尼康首发无掩模光刻系统DSP-100，专为先进封装FOPLP量身定制2024年7月，日本光刻设备巨头尼康（Nikon）带来重磅创新——全球首款专为半导体后道工艺开发的无掩模光刻系统DSP-100正式亮
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国产碳基芯片生产线正式启动，突破EUV光刻机限制，开辟芯片新道路
2017年北大彭连矛和张志勇带领的团队就已在碳纳米管方面取得突破，制备出5纳米栅极碳纳米管COMS器件，2019年美国的麻省理工团队才构建了碳纳米管的16位处理器，此后中美在碳基芯片技术方面的较量主要就是在…
